टैंटलम शीट/प्लेट

टैंटलम शीट/प्लेट

एएसटीएम बी708 के अनुसार निर्मित एमएच टैंटलम शीट/प्लेट्स, टीए1 (आर05200) और टीए2 (आर05400) में उपलब्ध हैं, जिनकी शुद्धता 99.95% से अधिक या उसके बराबर है।
एमएच टैंटलम शीट/प्लेटें इलेक्ट्रॉन {{0}बीम वैक्यूम मेल्टेड (ईबीएम) सिल्लियों से निर्मित होती हैं और एकसमान माइक्रोस्ट्रक्चर, कम अशुद्धता सामग्री और स्थिर यांत्रिक प्रदर्शन सुनिश्चित करने के लिए सटीक रोलिंग और एनीलिंग के माध्यम से संसाधित की जाती हैं।

उत्पाद का परिचय

टैंटलम शीट/प्लेट अवलोकन

 

 

टैंटलम प्लेट एएसटीएम बी708 के अनुसार उच्च शुद्धता वाले टैंटलम से निर्मित होती है, जो असाधारण संक्षारण प्रतिरोध, अति उच्च गलनांक और उत्कृष्ट निर्माण क्षमता प्रदान करती है। अपनी प्राकृतिक रूप से बनी घनी ऑक्साइड परत (Ta₂O₅) के कारण, टैंटलम प्लेट आक्रामक रसायन और उच्च तापमान वाले वातावरण में जहां पारंपरिक धातुएं विफल हो जाती हैं, दीर्घकालिक विश्वसनीयता प्रदान करती है।

 

एमएच टैंटलम शीट/प्लेट विशिष्टता

 

 

संपत्ति

Ta1 (R05200), Ta2 (R05400) (ASTM B708)

पवित्रता

99.95% से अधिक या उसके बराबर

घनत्व

16.6 ग्राम/सेमी³

गलनांक

3,017 डिग्री

मोटाई रेंज

0.1-10 मिमी (कस्टम उपलब्ध)

चौड़ाई/लंबाई

अनुरोध पर अनुकूलित

सतही समापन

रोल किया हुआ, एनील्ड किया हुआ, पॉलिश किया हुआ या मशीनीकृत किया हुआ

मानक एएसटीएम बी708 - टैंटलम और टैंटलम मिश्र धातु प्लेट, शीट और स्ट्रिप, अनुरोध पर अन्य मानक उपलब्ध हैं

 

 

एमएच विनिर्माण प्रक्रिया - इलेक्ट्रॉन बीम वैक्यूम पिघलने

 

 

हम टैंटलम सिल्लियों के लिए मुख्य पिघलने की प्रक्रिया के रूप में इलेक्ट्रॉन बीम वैक्यूम मेल्टिंग (ईबी) को अपनाते हैं।

प्रक्रिया के लाभ:

● अल्ट्रा-उच्च वैक्यूम वातावरण गैस संदूषण को कम करता है

● ऑक्सीजन, नाइट्रोजन, हाइड्रोजन और धात्विक अशुद्धियों का बेहतर निष्कासन

● अत्यधिक समान सूक्ष्म संरचना और रासायनिक संरचना

● संक्षारण प्रतिरोध और सेवा जीवन में वृद्धि

● बैचों के बीच उत्कृष्ट स्थिरता

यह प्रक्रिया उच्च शुद्धता, दीर्घकालिक स्थिरता और अत्यधिक संक्षारण प्रतिरोध की आवश्यकता वाले अनुप्रयोगों के लिए विशेष रूप से महत्वपूर्ण है।

 

प्रमुख विशेषताऐं

 
01/

उच्च शुद्धता सामग्री
99.95% से अधिक या उसके बराबर शुद्धता के साथ Ta1 (R05200) और Ta2 (R05400) में उपलब्ध है।

02/

उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध
HCl, HNO₃, H₂SO₄, और एक्वा रेजिया सहित अधिकांश मजबूत एसिड के लिए उत्कृष्ट प्रतिरोध।

03/

अल्ट्रा-उच्च गलनांक
3,017 डिग्री तक गलनांक, अत्यधिक तापीय वातावरण के लिए उपयुक्त।

04/

उत्कृष्ट संरचना एवं लचीलापन
अच्छी ठंडी और गर्म कार्यशीलता, बनाने, मोड़ने, वेल्डिंग और निर्माण के लिए आदर्श।

05/

स्थिर निष्क्रिय ऑक्साइड परत
सघन Ta₂O₅ फिल्म दीर्घकालिक रासायनिक स्थिरता और विस्तारित सेवा जीवन प्रदान करती है।

 

 

 

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